HMDS涂膠烤箱，MES接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過HMDS制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭?，從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。

HMDS涂膠烤箱，MES接口hmds涂布機(jī)簡(jiǎn)介：

     HMDS涂膠烤箱的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過HMDS制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭?，從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。

      首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應(yīng)，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(*基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

HMDS涂膠烤箱，MES接口hmds涂布機(jī)特點(diǎn)：

1.HMDS是氣相涂布在硅片表面，也就是硅片在高溫環(huán)境HMDS的蒸汽中放置；

2.在顯影過程中無(wú)需去除硅片表面的HMDS層；

3.在HMDS上面滴光刻膠甩涂時(shí)，光刻膠內(nèi)的溶劑不會(huì)破壞HMDS層；

4.多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到廢氣收集管道；

5.所有制程都在密閉的腔體內(nèi)完成，操做是不會(huì)接觸到HMDS蒸汽；

6.可保存多個(gè)產(chǎn)品制程，制程工藝一鍵完成，無(wú)需值守人員。

HMDS涂膠烤箱技術(shù)指標(biāo)：

1.設(shè)備型號(hào)：    JS-HMDS90                                                          
2.工作室尺寸（mm）： 450×450×450，650*650*650,800*800*800,1200*1000*1200 可自定
3 外形尺寸：  根據(jù)內(nèi)腔尺寸變化
4. 材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或不銹鋼，內(nèi)箱采用316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼
5. 溫度范圍 ：RT+10-250℃
6. 溫度分辨率 ：0.1℃
7. 溫度波動(dòng)度： ≤±0.5
8. 真空度： ≤133pa（1torr）
9. 潔凈度 ：class 100，設(shè)備采用無(wú)塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境
10.電源及總功率  ：  AC 220V±10% / 50HZ       總功率約3.0KW    
11. 重量： 約180KG
12. 控制儀表 ：人機(jī)界面
13.擱板層數(shù) ：2層
14. HMDS控制 ：可控制HMDS藥夜添加量
15.真空泵：旋片式油泵或干泵
16. 保護(hù)裝置    HMDS藥液泄漏報(bào)警裝置，HMDS自動(dòng)添加，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等