無(wú)塵烘箱，無(wú)塵固化烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。

無(wú)塵烘箱，無(wú)塵固化烤箱技術(shù)參數(shù)
1、 無(wú)塵等級(jí)：Class 100;     
2、 溫度均勻度：±2℃;    
3、 溫度波動(dòng)度：±0.5℃（空載）；        
4、 溫控精度：±0.1℃;
5、 溫度范圍：RT+10-200/300℃;
6、 升溫速率：≥8℃/min（可修改）；
7、 內(nèi)腔材質(zhì)：SUS304＃鏡面不銹鋼；
8、 外箱材質(zhì)：優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或SUS304＃不銹鋼；
9、 密封條：耐高溫氟橡膠密封條；
10、氮?dú)庋b置：可調(diào)式浮子流量計(jì)；
11、安全裝置：漏電保護(hù)，超溫保護(hù)，三色提示燈等。

無(wú)塵烘箱，無(wú)塵固化烤箱概述
       無(wú)塵烤箱用于高精度硅上薄膜電阻制造過(guò)程中堅(jiān)膜工藝。也用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤。
 

無(wú)氧化烤箱，高溫?zé)o氧化烤箱概述

無(wú)氧化烤箱應(yīng)用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，形成高溫、低氧（無(wú)氧）、潔凈環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、COB封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求，廣泛應(yīng)用于電子產(chǎn)品、五金制品、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等行業(yè)。

無(wú)氧化烤箱，高溫?zé)o氧化烤箱技術(shù)參數(shù)

Ø 內(nèi)部尺寸：600*700*800mm(深*寬*高)

Ø 材質(zhì)：外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用SUS304不銹鋼

Ø 溫度范圍：RT+10-250℃

Ø 溫度分辨率：0.1℃

Ø 溫度波動(dòng)度：＜±1℃

Ø 溫度均勻度：≤±1.5%

Ø 升溫速率：5℃/min，（空箱測(cè)試）

Ø 降溫時(shí)間：可滿足180℃-60℃，降溫4℃/min（空箱測(cè)試）

Ø 電源：380V 50HZ ,6KW

Ø 計(jì)時(shí)功能：具有獨(dú)立的計(jì)時(shí)器，計(jì)時(shí)開(kāi)關(guān)，計(jì)時(shí)報(bào)警器

Ø 氧含量

高溫狀態(tài)氧含量：≤ 20ppm +氣源氧含量

低溫狀態(tài)氧含量：≤ 50ppm +氣源氧含量

Ø 氮?dú)饪刂疲毫髁坑?jì)節(jié)氮系統(tǒng)，無(wú)氧、低氧環(huán)境下大節(jié)省氮?dú)庀牧?/span>

Ø 鼓風(fēng)裝置：采用大功率耐高溫長(zhǎng)軸馬達(dá)，大口徑不銹鋼渦輪扇葉，可在高溫環(huán)境下長(zhǎng)期穩(wěn)定工作

Ø 氮?dú)鈨艋到y(tǒng)：微型油水塵埃過(guò)濾組mini fulter，可對(duì)氮?dú)庥退?.1μm顆粒進(jìn)行過(guò)慮