將HMDS涂到樣品表面后，經(jīng)烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷裕耸杷阅蹾MDS烘箱，hmds預(yù)處理烘箱夠很好的與光刻膠結(jié)合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。

將HMDS涂到樣品表面后，經(jīng)烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷?，此疏水性能夠很好的與光刻膠結(jié)合，增加了樣品表面與光刻膠的粘附作用。

HMDS烘箱，hmds預(yù)處理烘箱系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：

整個(gè)系統(tǒng)由加熱、真空系統(tǒng)、充氮、加藥和控制模塊等5部分組成

加熱模塊

    由于工藝的整個(gè)過(guò)程都需要在150℃左右的環(huán)境下進(jìn)行，所以自始至終加熱系統(tǒng)都在工作。

    本系統(tǒng)采用在腔內(nèi)分布兩塊獨(dú)立的熱板來(lái)實(shí)現(xiàn)加熱，每個(gè)熱板都采用人工智能PID調(diào)節(jié)儀實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制，調(diào)節(jié)儀控制固態(tài)繼電器的輸出從而實(shí)現(xiàn)溫度的精確穩(wěn)定控制，測(cè)溫采用通用的高精度熱敏電阻Pt100。

真空模塊

   由機(jī)械泵、真空組件、真空測(cè)量等組成，主要作用是置換氣體和抽走剩余HMDS蒸汽。

充氮模塊

   作用是在置換過(guò)程中，用氮?dú)鈦?lái)逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽，從而zui終替換空氣或藥液蒸汽的氣氛。

   主要由氮?dú)庠础⒖刂崎y和噴頭組成。

HMDS烘箱，hmds預(yù)處理烘箱控制模塊

    控制模塊是本系統(tǒng)的核心模塊，它的作用是控制各個(gè)模塊的動(dòng)作和時(shí)序，完成整個(gè)工藝過(guò)程。它主要由人機(jī)界面，CPU控制中心，控制接口和輸出部件，報(bào)警等5部分組

成。

  人機(jī)界面采用φ100mm松下觸摸屏來(lái)實(shí)現(xiàn)參數(shù)、狀態(tài)等界面的顯示和參數(shù)的設(shè)定輸入。PLC采用松下的FP0系列小型化PLC。

軟件組成

整個(gè)控制軟件共分4個(gè)部分，即自動(dòng)運(yùn)行、手動(dòng)控制、參數(shù)設(shè)定、幫助。

當(dāng)按下自動(dòng)運(yùn)行鍵后，畫(huà)面轉(zhuǎn)換到運(yùn)行畫(huà)面，顯示當(dāng)前的工藝狀態(tài)，運(yùn)行時(shí)間等，同時(shí)系統(tǒng)開(kāi)始運(yùn)行。